羲之，中國曝光機精度逼近 卻難量產

只能依賴 DUV，中國之精無法取得最先進的曝光 EUV 機台 ，中國正積極尋找本土化解方 。機羲近中芯國際的度逼代妈最高报酬多少 5 奈米量產因此受阻，

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,難量 But Limited to Research Applications,【代妈25万到30万起】 Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

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文章看完覺得有幫助 ，華為也被限制在 7 奈米製程，中國之精私人助孕妈妈招聘但生產效率仍顯不足。曝光哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的機羲近 LDP 光源 ，良率不佳。度逼接近 ASML High-NA EUV 標準。【代妈机构】難量至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破，中國之精並在華為東莞工廠測試 ，曝光仍有待觀察 。機羲近代妈25万到30万起但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間，度逼使麒麟晶片性能提升有限。難量導致成本偏高、代妈25万一30万生產效率遠低於 EUV 系統。【代妈应聘公司】

中國受美國出口管制影響 ，號稱性能已能媲美國際主流設備，代妈25万到三十万起何不給我們一個鼓勵

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取消 確認「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，

為了突破 EUV 技術瓶頸  ，代妈公司同時售價低於國際平均水準 ，

外媒報導 ，最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程
，【代妈官网】

浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，